高性能等离子接地体技术原理，主要是充分利用电阻率ρ较低的深层土壤或地下水，在此环境中高性能等离子接地体能不断产生离子，有效释放到周围的土壤中，成为一个离子发生装置，从而改善周边土质使之达到接地降阻要求。接地体外部填充材料通过与其内部电解离子填充材料的相互作用产生针对壳层土壤的化学处理，填充剂具有良好的渗透性能，深入到泥土及岩缝中，形成树根网状，降低壳层土壤的电阻率，同时在缓释接地体与大地土壤之间，形成了一个过渡带， 增大了接地体的等效截面积和土壤的接触面积，消除了接地体与土壤之间的接触电阻，改善了地中的电场分布，从而取得了非常好的降低接地电阻效果。
高性能等离子接地体常用规格：
Φ50mm*1500mm / Φ50mm*2500mm / Φ50mm*3000mm / Φ54mm*1500mm /Φ54mm*3000mm / Φ60mm*2mm / Φ65mm*3000mm / Φ65mm*6000mm等多种规格、长度的高性能等离子接地体，还可根据用户要求的规格定做。
高性能等离子接地体施工及安装方法：
开挖水平接地沟，沟深0.8-1.0m，在沟底部采用机械钻孔，孔的直径150mm，孔深6米，将高性能等离子接地体放入打好的深井中（为防止屏蔽效应，高性能等离子接地体间距通常在20米以上），将引出线连接到接地干线。接地专用填充剂的使用：首先将填充剂兑水和成泥浆状（粘稠度以便于灌桩为宜），然后将泥状填充剂灌入深井中，每个高性能等离子接地体配套3包（25kg/包）深井接地专用填充剂。填充剂灌注完成后用细粘土回填。 |
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