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公 司: 郑州科创实验仪器设备有限公司
发布时间:2022年12月17日
有 效 期:2023年06月18日
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公 司:郑州科创实验仪器设备有限公司

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详细说明

    持久型小型溅射仪
一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,
磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

需要镀膜的样品
1、电子束敏感的样品:
主要包括生物样品,塑料样品等。SEM中的电子束具有较高能量,在与样品的相互作用过程中,它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料,那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下,用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用,防止此类损伤;
2、非导电的样品:
由于样品不导电,其表 面带有“电子陷阱", 这种表面上的电子积累 被称为“充电"。为了 消除荷电效应,可在样 品表面镀一层金属导电 层,镀层作为一个导电 通道,将充电电子从材 料表面转移走,消除荷 电效应。在扫描电镜成 像时,溅射材料增加信 噪比,从而获得更好的成像质量。


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