供应半导体器件清洗设备

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公　司：北京华林伟业电镀器材有限公司

发布时间：2014年11月25日

有效期：2015年05月27日

联系人：张健先生

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张健先生 (销售主管)

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电　　话： 010-69592203-8025 传　　真： 010-69595208 手　　机： 13321111993 在线联系：地　　址：中国北京通州区北京市通州区宋庄镇小堡工业区邮　　编： 101118
公司主页：	http://hlwt111.qy6.com(加入收藏)

详细说明

片盒清洗机—半导体器件清洗设备 1. 主要指标： 1.全自动形式。 2.外形尺寸3100×1400×2500（长×宽×高） 3.适用硅片：4寸（可根据客户要求待定） 4.装片能力：50片/批（2花篮，25片/花篮） 5.工作区洁净度：100级 6.槽间工艺转换时间：Tmax≤3.5s 2. 1.设备由五大部分组成：清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机。 2 .清洗槽部分由有机溶剂槽、去离子水槽、酸槽或碱槽等组成。 3. 关键件采用进口件，包括气动阀，PFA管道、全氟循环系统，保证工作介质（酸、碱）的洁净度，避免杂质析出。 4. 工艺过程全自动，机械手在槽间的转换由两套伺服系统控制，可存储多条工艺时序，方便使用。 5. 除装片和取片需人工外，其余工艺动作均可自动完成，适用连续批量生产。 6. 人机界面为触摸屏，方便直观；界面中有故障报警，安全保护，工艺时序号等功能。 7.工作区设净化装置，内置高效过滤器，满足工作区净化要求（1000—100级，10级为特制）。

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