光催化除臭设备产品技术原理
一、光催化除臭设备利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体物质分子键，裂解恶臭气体物质如：氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC类，苯、甲苯、二甲苯的分子键，使呈游离状态的污染物原子与臭氧氧化聚合成小分子无害或低害物质，如CO2、H2O等。
二、利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而生成臭氧；UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧与呈游离状态污染物质原子聚合，生成新的、无害或低害物质，如CO2、H2O等，同时，臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。
三、恶臭气体（工业废气）利用排风设备输入到本UV光解净化设备后，净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同裂解、氧化反应，使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出室外。
四、利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的．
五、设备适用范围：炼油厂、橡胶厂、化工厂、制药厂、污水处理厂、垃圾转运站等恶臭气体的脱臭净化处理。 |
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