供应石久SiO2二氧化硅靶高纯二氧化硅陶瓷靶

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公　司：北京石久高研金属材料有限公司

发布时间：2017年10月20日

有效期：2018年04月21日

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潘娜娜女士 (业务员)

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公司主页：	http://panana.qy6.com(加入收藏)

详细说明

化学符号：SiO2 沸点：2230℃
分子量：60.08 外观：透明
熔点：1700℃ 密度：2.2-2.7g/cm3
在10-4Torr真空下蒸发温度为：1025℃
纯度：4N
透明区/nm：200-8000
相对介电常数：3-4
击穿电压/V•cm-1：106
厚度μm：0.03-0.3
沉积技术：反应溅射
折射率(波长/nm)：1.46(500)
1.445(1600)
线膨胀系数/℃-1:5.5×10-7
蒸发方式：电子束
性能：可用钽舟加热蒸发，也可用三氧化二铝坩埚加热蒸发，但由电阻加热蒸发会产生分解，由电子束加热蒸发效果很好；不溶于水和酸，但溶于氢氟酸；其微粒能与熔融碱起作用；
应用：二氧化硅用途广泛，主要用于冷光膜、防反膜、多层膜、滤光片、绝缘膜、眼镜膜、紫外膜等。

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