纳米氧化硅（SiO2）分散浆料 TSD

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纳米氧化硅（SiO2）分散浆料 TSD

纳米氧化硅（SiO2）分散浆料 TSD//纳米氧化硅（SiO2）分散浆料 TSD

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公　司：南京天行新材料有限公司

发布时间：2021年01月11日

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详细说明

TSD是一种均匀稳定的纳米氧化硅分散浆料，外观为带蓝相白色液体。TSD区别于硅溶胶，是我公司通过先进的纳米分散工艺，将纳米氧化硅粉体在水或溶剂中充分稳定分散，产品具有优异的分散性和稳定性，能够储存6个月稳定无沉淀。
TSD相比较于比纳米氧化硅粉体，具有更加细小的粒径，且不易团聚，粒径分布狭窄，产品具有更加优异的纳米特性，使用时易于添加和混合，极大的提升了纳米氧化硅应用的可操作性和应用前景。
产品理化指标
产品型号：TSD
有效成分：纳米SiO2
产品外观：带蓝相白色液体
溶剂：水或者溶剂
固含量（SiO2含量）：10~20 wt%（客户指定）
分散后粒径，D50：50~120 nm
pH值：6~8
粘度（25°C）：800cps
储存稳定性：≥6个月
纳米氧化硅分散浆料不含任何有毒有害或挥发性化学品，为绿色环保产品，产品参数均可根据客户要求定制。
产品应用
TSD具有高纳米固含量、低粘度的特性，性能稳定，使用简单方便，广泛用于涂料油墨、陶瓷、造纸、胶粘剂、抛光、塑料、纺织上浆等行业，能够有效的提升产品批次稳定性和产品性能。

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