磷酸锂纳米颗粒高速研磨机/锂盐管线式纳米胶体磨/正磷酸高剪切纳米胶体磨
磷酸锂纳米颗粒的方法，该方法将含锂元素的水溶液和含磷元素的水溶液在IKN高剪切反应釜内快速混合进行反应，在20℃-90℃下进行反应，从反应器出口得到含磷酸锂沉淀的浆料，浆料经固液分离、洗涤、干燥及经过IKN高剪切胶体磨研磨，最终得到呈纳米颗粒状态且单分散性较好的磷酸锂颗粒。
工业上大多使用磷酸盐和锂盐溶液为原料在搅拌釜等常规反应器内直接混合，反应得到磷酸锂沉淀。由于常规反应器混合和传质效率低，因此局部过饱和度较低，不利于快速成核，并且由于反应时间一般为I~5小时，反应时间较长，颗粒生长较为严重，造成磷酸锂颗粒粒径较大且不均匀，平均粒径均在微米级。
使用IKN高剪切纳米胶体磨具有反应条件温和，设备可靠性好，所需反应器体积小，过程连续简便，易于操作等特点。制备的磷酸锂颗粒粒径在50-200nm范围内，尺寸可控，分布均匀，产品产率可达到90%左右。
磷酸锂纳米颗粒高速研磨机/锂盐管线式纳米胶体磨/正磷酸高剪切纳米胶体磨
磷酸锂纳米颗粒高速研磨机定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
磷酸锂纳米颗粒高速研磨机是由IKN研发工程师于2013年研发的一款用于物料精细研磨，分散，乳化，均质的高精度设备，高剪切研磨分散机结合了IKN高剪切胶体磨与IKN高剪切分散均质乳化机的高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可达14000rpm，是目前XX设备转速的4-5倍
CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
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