硅片清洗剂清洗硅片对清洗剂要求很高，为达到理想的清洗效果，按不同的目的和工艺条件，应正确地选用清洗剂。清洗剂主要分为碱性和酸性。
硅片清洗剂（双组份）
硅片清洗剂是针对电子级、太阳能级硅片在IT及太阳能电池领域的特殊清洗要求，借鉴国内外先进技术配方及所有文献资料，在与科研合作的情况下，通过无数次研究复配、小试、中试到多家国内知名公司的长期使用。
产品性能：
1.高浓缩双组分产品，尤其适合清洗重污染硅片。
2.不含磷，低泡，超声波和喷淋清洗都不会溢出泡沫，符合欧盟ROHS环保要求。
3.金属离子含量低于40ppm（不包括钾、钠离子），满足高精度电子应用要求。
硅片清洗剂
硅片清洗剂是针对电子级、太阳能级硅片在IT及太阳能电池领域的特殊面清洗要求，采用高新技术复配的酸性清洗剂。通过长期测试，已在多家太阳能硅片企业长期使用。
主要特点：
1.酸性硅片清洗剂，适合在自动线由自动泵连续添加。
2.不含磷，低泡，超声波和喷淋清洗都不会溢出泡沫，符合欧盟ROHS环保要求。
3.金属离子含量低于40ppm（不包括钾、钠离子），能满足高精度的IT要求。
硅片清洗剂
硅片清洗剂产品是针对轻污染硅片及多晶硅料而研制的碱性清洗剂，通过研究与反复试验，并在行业内知名太阳能厂家联合试验后发现该产品对轻污染硅片及多晶硅料清洗效果非常突出。
主要特点：
1. 硅片清洗剂为高浓缩单组分产品，清洗硅料效果突出。
2.不含磷，低泡，超声波和喷淋清洗都不会溢出泡沫，符合欧盟ROHS环保要求。
3.金属离子含量低于40ppm（不包括钾、钠离子），清洗后的硅片拥有更优异的光电转换效率。
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