供应PECVD（等离子体增强化学汽相淀积）系统-青岛精诚华旗微电子设备有限公司

首页

企业名录

产品大全

商业机会

企业E化

我的办公室

您当前位置是：华企网首页 >> 商业机会 >> 电子电工 >> 电子电工产品制造设备 >> 供应PECVD（等离子体增强化学汽相淀积）系统

供应PECVD（等离子体增强化学汽相淀积）系统

供应PECVD（等离子体增强化学汽相淀积）系统-青岛精诚华旗微电子设备有限公司-供应PECVD（等离子体增强化学汽相淀积）系统

点此浏览大图

发布时间：2008年11月04日

有效期：2009年05月03日

公　司：青岛精诚华旗微电子设备有限公司

联系人：丁女士

添加为商业伙伴

留言询价

联系信息

企业信息

丁女士 (经营部)

电　　话： 0532-87081718 传　　真： 0532-87688309 手　　机： 053287081038 地　　址：中国山东青岛市李沧区北崂路1022号邮　　编： 266100
公司主页：	http://jchqtec.qy6.com(加入收藏) http://www.jcmee.com

详细说明

    PECVD用途：主要用于钝化及布线介子层的氮化硅、氧化硅及参杂等
PECVD结构：热壁式（传统管式），冷壁式
PECVD规格：每台配置 1-3 反应管，晶圆的加工尺寸为 2 -8 英寸
基本配置及技术指标：
◇  结构组成：主机（加热体、反应室等）、气源系统、真空系统、真空压力控制系统、射频功率单元、工作台既送片系统、整机的计算机控制系统等；
◇  主要技术指标：
1 、温度： 100 ～ 800 ℃
2 、恒温区： 760mm ± 1 ℃ ( 热壁式，可形成温度梯度 )
3 、极限真空度： 8 × 10 -1 Pa
4 、工作真空度： 10 ～ 1000Pa
5 、压力测控范围： 1Pa ～ 1000Pa
6 、适用晶片： 50mm ～ 200mm
7 、装片： 20 ～ 50 片 / 批
8 、淀积膜： Si 3 N 4 、 Poly-Si 、 SiO 2 等等
◇ 控制系统：整机控制系统采用工业控制计算机（ WINDOWS 系统界面）
◇ 气源系统：进口管件阀、自动轨道焊接
◇ 射频单元：进口 / 国产（ 50KHZ-13.56MHZ ）

产品规格:	产品数量:
包装说明:	价格说明:

加为商业伙伴

留言询价

推荐给好友

以上信息由企业自行提供，该企业负责信息内容的真实性、准确性和合法性。中华企业录对此不承担任何保证责任。

该公司其他商业信息

供应H-VPE系统
(2008年11月04日 08:35)

供应气体保护链式炉系列
(2008年11月04日 08:35)

供应双室真空快淬烧结炉
(2008年11月04日 08:35)

供应加热炉炉体系列
(2008年11月04日 08:34)

供应LPCVD（低压化学汽相淀积）系统
(2008年11月04日 08:34)

供应立式管式炉
(2008年11月04日 08:34)

供应扩散炉系统
(2008年11月04日 08:34)

供应H-VPE系统
(2008年11月04日 08:33)

供应氧化扩散炉系统
(2008年11月04日 08:33)

机械工业	化工环保	家居用品	电子电工	礼品饰品	纺织皮革	建筑建材	服装鞋帽	电脑软件	农业	食品饮料	包装、纸
商务服务	冶金矿产	办公文教	医药保养	家用电器	汽摩及配件	运动休闲	通讯产品	安全防护	能源玩具	印刷出版	交通运输

回到页首

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10..

联系人：丁电话：0532-87081718